◆ 用途
BN303系列紫外負(fù)型光刻膠是一類(lèi)采用寬譜紫外線(xiàn)曝光的陰圖型光致抗蝕劑,主要用于中小規(guī)模集成電路、分立器件及其它微型器件的制作。
◆ 產(chǎn)品特點(diǎn)
Ø 涂布性能:在多種基片上均有良好的粘附性
Ø 感光性能:對(duì)寬譜紫外線(xiàn)(高壓汞燈)敏感
Ø 分辨率:實(shí)用分辨率可達(dá)5μm
Ø 抗蝕性能:抗?jié)穹ǜg性能良好
◆ 產(chǎn)品規(guī)格
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(30℃),mPa.s
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膜厚(μm)
(轉(zhuǎn)速:4000轉(zhuǎn)/分)
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(%)
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(ppm)
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BN303-30
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29.0±1.5
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0.85~0.95
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≥60
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≤1
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≤0.02
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BN303-45
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42.0±2.0
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0.95~1.15
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≥60
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≤1
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≤0.02
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BN303-60
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60.0±2.0
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1.05~1.15
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≥65
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≤1
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≤0.02
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BN303-60H
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60.0±2.0
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1.3-1.5
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≥65
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≤1
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≤0.02
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BN303-100
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100.0±10.0
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2.0~2.3
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≥75
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≤1
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≤0.02
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BN-303-100TS
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100.0±10.0
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1.9~2.1
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≥75
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≤1
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≤0.02
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◆ 參考使用工藝
Ø 涂膠:旋轉(zhuǎn)涂布,溫度20℃~25℃,濕度60%以下
Ø 前烘:對(duì)流烘箱,80℃,20min
Ø 曝光:高壓汞燈曝光,曝光量15-35 mj/cm2
Ø 顯影:BN負(fù)膠顯影劑,室溫浸入顯影1~2min
Ø 漂洗:BN負(fù)膠漂洗劑, 室溫浸入漂洗1min
Ø 堅(jiān)膜:對(duì)流烘箱,130~140℃,30min
Ø 濕法腐蝕:依用戶(hù)工藝而定
Ø 去膠:BN負(fù)膠去膜劑,90~110℃,10~20min